SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀GDA 650/GDA 150裝備有新一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學系統(tǒng)匹配。新一代的CCD檢測器不但具備傳統(tǒng)光電倍增管的低噪聲、寬動態(tài)范圍的特點，而且還具備優(yōu)異的分辨力和全譜數據采集能力，特別適合同時需要高精度檢測和分析靈活性的用戶。

高分辨率CCD光學系統(tǒng)使得GDA 650/GDA 150具備無限的擴展能力， 允許使用者在任何分析方法下任意擴展和增加任何分析通道。

這種靈活性允許進行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進行定量分析。

在含量-深度測量中，分析深度可達200um以上， 層分辨率可達納米級。GDA 650/GDA 150也可進行基體總量分析，尤其對于復雜基體，具備優(yōu)異的線性校準曲線。檢出限可達ppm級。

GDA 650/GDA 150裝備有新一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具(USU)，也可進行小樣品和異形樣品的分析，無需更換特殊電極。

GDA 650也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導體材料。

采用脈沖式射頻光源后，可分析非導體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機涂層、有機薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。

激發(fā)光源

同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證穩(wěn)定性和重復性

-高效的樣品直接冷卻。可直接分析熱敏感樣品、極薄的金屬薄膜和有機薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜

-優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時實現低檢出限和高深度分辨率

-專門設計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復性測量大樣品分析厚度45mm，小厚度50um

-*程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可高達1500V，電流250mA

-*程序自動控制的射頻光源(RF)，功率大150W，電壓、電流自動監(jiān)控，實時等離子自動調節(jié)、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 650有效)

-選裝件：自動進樣器，程序控制100位

光學系統(tǒng)

高性能CCD光學系統(tǒng)，光譜范圍120--800nm

-光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)

-Paschen-Runge光學系統(tǒng)， 焦距400mm

-全息原刻光柵，2400線/mm

-光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性優(yōu)異

-可無限制的配置分析通道，所有元素同時檢測

-方便易操作的透鏡清潔，可立即進行分析

-CCD檢測器的靈敏度可自動調節(jié)

真空系統(tǒng)

-全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析

-光室真空采用二級旋轉葉片真空泵，噪音<50dB

-單泵設計，同時運用于光源和光室

-特殊的旋片真空泵，可大限度的減少C，H元素的污染

-內置安全閥設計，以避免突然斷電對旋轉葉片泵的損害

-選裝件：渦輪分子泵

-選裝件：旋轉葉片真空泵可用無油真空泵替代

WinG DOES軟件

-WindowsXP或更高平臺運行

-使用界面簡單、易懂，分級管理和操作

-功能強大

-方法建立簡便，在線指導

-校準樣品管理，*樣品添加

-多種校準模式

-基體總量元素測量校準

-QDP定量分析校準

-用戶定制測量報告模式

-數據處理和再處理功能

-多種格式數據輸出

-分析過程中界面語言切換

應用

-熱處理

準確測量所關心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例

-涂鍍層

可獲得涂鍍層完整的化學組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析

-硬質合金層

快速分析硬質合金層和熱處理工件的滲層化學組分

-陶瓷

采用RF光源可準確可靠的測量

-化學組分

準確測量化學元素含量

高精度、高重復性檢測

快速分析：<60s

可分析從H至U的所有元素， 檢測范圍從ppm至100%

-太陽能電池薄膜

檢測太陽能光伏電池薄膜中化學元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可準確可靠的測量

輝光放電光譜儀主要應用領域

-汽車制造及零部件

-金屬加工、制造

-冶金

-航空、航天

-電子工業(yè)

-玻璃、陶瓷

-表面處理：化學氣相沉積、物理氣相沉積等

-電鍍

-光伏電池、鋰電

-科學研究